小型磁控溅射镀膜设备-单靶
VJC-200磁控溅射系统的用户群体为科研院所与高校实验室，核心部件磁控靶自主研发，技术先进，性能稳定，可替代进口。
特点/优势：
★ 手动上开盖真空腔体，方便取放基片、更换靶材及真空室日常维护；
★ 主泵采用分子泵，前级泵采用合资旋片泵；
★ 1只2英寸/3英寸圆形平面磁控靶；
★ 配备直流或射频溅射电源，可溅射金属、非金属、化合物及绝缘材料等；
★ 基片台旋转，磁流体密封，转速0-25rpm连续可调；基片台可选配加热、负偏压、掩膜板等；
★ 1路工艺气体（Ar和O2）MFC控制，可拓展1～2路；
★ 设备集成度高，结构紧凑，占地面积小（0.92平米）；设备配脚轮，方便移动和定位。
主要技术指标
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型号 |
VJC-200A |
VJC-200B |
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真空室 |
Φ245×H300mm |
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304不锈钢真空室，内表面镜面抛光 |
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真空系统 |
国产分子泵+合资机械泵 |
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极限真空 |
优于10-5Pa |
优于2.0×10-5Pa |
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恢复真空时间 |
达到9×10-4Pa≤20min |
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蒸发源 |
2英寸/3英寸溅射靶，1只 |
2英寸溅射靶/1只+1组热蒸发源 |
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溅射电源 |
DC,DC脉冲,RF |
DC,DC脉冲,RF |
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工艺气体 |
1路工艺气体,可拓展 |
1路工艺气体,可拓展 |
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膜厚不均匀性 |
±3%～±5% |
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电控系统 |
PLC+触摸屏手自一体控制 |
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报警保护 |
完善的程序互锁，完备的防误操作设计及保护； 系统缺水、过流过压等异常情况进行报警并执行相应保护措施。 |
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选配 |
冷却循环水机/膜厚监控仪/基片台加热或水冷/溅射电源/偏压电源/恒压控制系统 |
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技术支持&服务
1. 技术支持：在合同签订之前，我们的专业工程师会在充分了解客户需求的前提下，为客户做出最优的选型和方案设计，使客户充分了解并理解产品技术指标、性能用途、使用场合、安全注意事项等，以帮助客户做出正确的选择。
2. 安装与培训：在产品使用前，我们会派专业工程师为您提供现场技术支持、培训及演示服务。
3. 产品质保：我们对产品提供12个月的质保期，在质保期内发生设备或配件损坏由公司负责赔偿或免费维修。（耗材和易损件除外）
4. 终身维护：我们对提供的产品提供终身服务，对于超过质保期限的维修、维护仅收取材料费，免除一切人工费用。
