产品&应用 
PRODUCT

小型磁控溅射镀膜设备

VJC-200磁控溅射镀膜设备配备一只圆形平面靶,可选用DC、DC脉冲、RF电源,该系列设备真空机电一体化设计,结构紧凑;核心部件磁控靶自主研发,性能稳定,性价比高;模块化设计,可扩展性和高可靠性;广泛应用于科研院所、实验室制备单层薄膜,以及新材料、新工艺研究。

产品详情

设备主要特点:

VJC系列磁控溅射系统的用户群体为科研院所与高校实验室,核心部件均采用欧美知名品牌,技术先进,性能稳定,可替代进口。

其主要特点有:

      前开门溅射腔体;

      国产分子泵和直联旋片泵,可选配进口分子泵和干泵系统;

      2~4个磁控靶位,磁控靶规格有50mm,75mm可选,选用欧美知名品牌;

      兼容直流和射频溅射源,溅射金属、非金属及化合物薄膜(如:ITO)等;

      朝上或朝下溅射;

      2英寸基片/或根据客户指定的基片来定制基片台,基片旋转,可加偏压;基片加热400℃;

      2~4路工艺气体;

      良好的薄膜均匀性和重复性,可沉积金属、半导体和绝缘材料,可拓展沉积多层膜及复合膜。

主要技术指标

型号                

VJC-300                

VJC-400                

VJC-500                

真空室                

Φ300×H350mm                

Φ400×H350mm                

Φ500×H400mm                

304不锈钢真空室,内表面镜面抛光                

真空系统                

国产分子泵+合资机械泵                

进口分子泵+进口机械泵/干泵                

进口分子泵+进口机械泵/干泵                

极限真空                

优于10-5Pa                

优于2.0×10-5Pa                

优于2.0×10-5Pa                

恢复真空时间                

达到9×10-4Pa≤20min                

溅射靶                

2只2英寸溅射靶;                

进口品牌                

3只2英寸溅射靶或                

2只3英寸溅射靶;                

进口品牌                

3只3英寸溅射靶或                

2只矩形平面靶                

溅射电源                

DC,DC脉冲,RF                

DC,DC脉冲,RF                

DC,DC脉冲,RF                

工艺气体                

2路工艺气体,可拓展                

3路工艺气体,可拓展                

3~4路工艺气体,可拓展                

膜厚不均匀性                

±3%~±5%                

±3%~±5%                

±3%~±5%                

电控系统                

手动按钮继电器控制,完善的逻辑程序互锁保护及异常报警;                

可实现全自动控制,可编程控制器(PLC),液晶显示触摸屏                

选配                

冷却循环水机/膜厚监控仪/基片台加热或水冷/溅射电源/偏压电源/恒压控制系统                

技术支持&服务

1. 技术支持:在合同签订之前,我们的专业工程师会在充分了解客户需求的前提下,为客户做出最优的选型和方案设计,使客户充分了解并理解产品技术指标、性能用途、使用场合、安全注意事项等,以帮助客户做出正确的选择。

2. 安装与培训:在产品使用前,我们会派专业工程师为您提供现场技术支持、培训及演示服务。

3. 产品质保:我们对产品提供12个月的质保期,在质保期内发生设备或配件损坏由公司负责赔偿或免费维修。(耗材和易损件除外)

4. 终身维护:我们对提供的产品提供终身服务,对于超过质保期限的维修、维护仅收取材料费,免除一切人工费用。