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小型高真空磁控溅射镀膜设备

VJC系列磁控溅射镀膜设备配备多只圆形平面靶或矩形平面靶，采用DC、DC脉冲、RF电源，该系列设备真空机电一体化设计，结构紧凑；核心部件进口国内组装，性价比高；模块化设计，可扩展性和高可靠性；广泛应用于科研院所、实验室制备单层或多层薄膜，以及新材料、新工艺研究。

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小型磁控溅射镀膜设备-单靶

VJC-200磁控溅射镀膜设备配备一只圆形平面靶，可选用DC、DC脉冲、RF电源，该系列设备真空机电一体化设计，结构紧凑；核心部件磁控靶自主研发，性能稳定，性价比高；模块化设计，可扩展性和高可靠性；广泛应用于科研院所、实验室制备单层薄膜，以及新材料、新工艺研究。

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